乳化罐清洗位置：將清洗物置于駐波壓力較大的位置，可獲得較佳的清洗效果。但是比駐波大的物體清洗時，易產(chǎn)生清洗不均，這時應將物體在上下數(shù)十毫米內(nèi)加以搖動，這是減少清洗不良的常用方法。由網(wǎng)孔引起的衰減：在清洗小型另件時，多使用網(wǎng)籃方式，網(wǎng)籃網(wǎng)孔的大小不當，會造成超聲波衰減，使清洗力降低，例在28KHZ場合，網(wǎng)籃的網(wǎng)孔直徑需在5mm以上，才可正常清洗。

如小的螺釘清洗時，網(wǎng)孔較小要做到1mm，如果衰減大，使用0．1-0．5mm的薄板網(wǎng)藍，也可得到正常清洗效果。頻率：對于頻率因素涉及的清洗效果，大體可這樣認為，乳化罐采用頻率低的針對較難清洗的污垢，頻率高的，適合于精密清洗場合。液體溫度：隨著液溫的上升，液中生存的氣泡會遮斷聲波，使超聲波減弱，但是在常規(guī)做法上都以提高液溫來增加清洗能力。

適合的液溫要針對不同的清洗液和清洗物來確定，一般場合液溫在5060℃比較適當。清洗工序的設定要根據(jù)污染的類型，污染程度，處理批量來決定，譬如，眼鏡片的清洗一般要10個工序。在使用水系清洗劑時，基本的工序制定如下：水系清洗劑→純水、自來水→脫水，干燥處理對清洗物的清洗性優(yōu)劣非常重要，常見的干燥方法有熱風干燥、通風干燥、真空干燥、離心脫水干燥、IPA提升干燥等，可按照生產(chǎn)批量、成本、產(chǎn)品精度、被洗物形狀等加以選擇。工業(yè)用乳化罐多為單槽或雙槽式、自動清洗形式的清洗機也有多槽形式。近年來，半導體行業(yè)用的清洗方式大多采用帶950KHZ 超聲槽的單枚式“US噴淋”高頻清洗，可得到高性能的清洗結(jié)果，“US噴淋”的方式是將載有950KHZ超聲波所形成的水帷幕，用于液晶玻璃、電路芯片的超精密清洗，塵粒子可接近“零”的程度。今后不同產(chǎn)品的濕式清洗，如需100％地發(fā)揮清洗劑的性能作用，對超聲清洗裝置將會提出更高的要求。